正保會(huì)計(jì)網(wǎng)校編輯注：根據(jù)財(cái)稅[2011]88號(hào)文件規(guī)定，本文失效

各省、自治區(qū)、直轄市、計(jì)劃單列市財(cái)政廳（局）、國家稅務(wù)局，新疆生產(chǎn)建設(shè)兵團(tuán)財(cái)務(wù)局，海關(guān)總署廣東分署、各直屬海關(guān)：

　　為了鼓勵(lì)科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)，促進(jìn)科技進(jìn)步，經(jīng)國務(wù)院批準(zhǔn)，對(duì)外資研發(fā)中心進(jìn)口科技開發(fā)用品免征進(jìn)口稅收，對(duì)內(nèi)外資研發(fā)機(jī)構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅。現(xiàn)將有關(guān)事項(xiàng)具體明確如下：

　　一、外資研發(fā)中心適用《科技開發(fā)用品免征進(jìn)口稅收暫行規(guī)定》（財(cái)政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第44號(hào)）免征進(jìn)口稅收，根據(jù)其設(shè)立時(shí)間，應(yīng)分別滿足下列條件：

　　（一）對(duì)2009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時(shí)滿足下列條件：

　　1.研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn)：（1）對(duì)新設(shè)立不足兩年的外資研發(fā)中心，作為獨(dú)立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于500萬美元；（2）對(duì)設(shè)立兩年及以上的外資研發(fā)中心，企業(yè)研發(fā)經(jīng)費(fèi)年支出額不低于l000萬元。

　　2.專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于90人。

　　3.設(shè)立以來累計(jì)購置的設(shè)備原值不低于1000萬元。

　　（二）對(duì)2009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時(shí)滿足下列條件：

　　1.研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn)：作為獨(dú)立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于800萬美元。

　　2.專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于150人。

　　3.設(shè)立以來累計(jì)購置的設(shè)備原值不低于2000萬元。

　　具體審核辦法由商務(wù)部會(huì)同財(cái)政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局另行制定。

　　二、適用采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅政策的內(nèi)外資研發(fā)機(jī)構(gòu)包括：

　　（一）《科技開發(fā)用品免征進(jìn)口稅收暫行規(guī)定》（財(cái)政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第44號(hào)）規(guī)定的科學(xué)研究、技術(shù)開發(fā)機(jī)構(gòu)。

　　（二）《科學(xué)研究和教學(xué)用品免征進(jìn)口稅收規(guī)定》（財(cái)政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局令第45號(hào)）規(guī)定的科學(xué)研究機(jī)構(gòu)和學(xué)校。

　　（三）符合本通知第一條規(guī)定條件的外資研發(fā)中心。

　　具體退稅管理辦法由國家稅務(wù)總局會(huì)同財(cái)政部另行制定。

　　三、本通知所述設(shè)備，是指本通知附件所列的為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開發(fā)提供必要條件的實(shí)驗(yàn)設(shè)備、裝置和器械。 ‘

　　四、本通知執(zhí)行期限為2009年7月1日至2010年12月31日。

　　附件：科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備清單

　　財(cái)政部 海關(guān)總署 國家稅務(wù)總局
二00九年十月十日

　　附件：

科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備清單

　　為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開發(fā)提供必要條件的實(shí)驗(yàn)設(shè)備、裝置和器械（不包括中試設(shè)備），具體包括以下三類：

　　一、實(shí)驗(yàn)環(huán)境方面

　　（一）教學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器及裝置；

　　（二）教學(xué)示教、演示儀器及裝置；

　　（三）超凈設(shè)備（如換氣、滅菌、純水、凈化設(shè)備等）；

　　（四）特殊實(shí)驗(yàn)環(huán)境設(shè)備（如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強(qiáng)腐蝕設(shè)備等）；

　　（五）特殊電源、光源（如電極、開關(guān)、線圈、各種光源等）；

　　（六）清洗循環(huán)設(shè)備；

　　（七）恒溫設(shè)備（如水浴、恒溫箱、滅菌儀等）；

　　（八）小型粉碎、研磨制備設(shè)備。

　　二、樣品制備設(shè)備和裝置

　　（一）特種泵類（如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動(dòng)泵、蝸輪泵、干泵等）；

　　（二）培養(yǎng)設(shè)備（如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等）；

　　（三）微量取樣設(shè)備（如移液管、取樣器、精密天平等）；

　　（四）分離、純化、濃縮設(shè)備（如離心機(jī)、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等）；

　　（五）氣體、液體、固體混合設(shè)備（如旋渦混合器等）；

　　（六）制氣設(shè)備、氣體壓縮設(shè)備；

　　（七）專用制樣設(shè)備（如切片機(jī)、壓片機(jī)、鍍膜機(jī)、減薄儀、拋光機(jī)等），實(shí)驗(yàn)用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備；實(shí)驗(yàn)室樣品前處理設(shè)備；

　　（八）實(shí)驗(yàn)室專用小器具（如分配器、量具、循環(huán)器、清洗器、工具等）。

　　三、實(shí)驗(yàn)室專用設(shè)備

　　（一）特殊照相和攝影設(shè)備（如水下、高空、高溫、低溫等）；

　　（二）科研飛機(jī)、船舶用關(guān)鍵設(shè)備和部件；

　　（三）特種數(shù)據(jù)記錄設(shè)備及材料（如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機(jī)、光盤機(jī)等）；

　　（四）特殊電子部件（如電路板、特種晶體管、專用集成電路等）；

　　（五）材料科學(xué)專用設(shè)備（如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴(kuò)散爐、濺射儀、離子刻蝕機(jī)，材料實(shí)驗(yàn)機(jī)等），可靠性試驗(yàn)設(shè)備，微電子加工設(shè)備，通信模擬仿真設(shè)備，通信環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備；

　　（六）小型熔煉設(shè)備（如真空、粉末、電渣等），特殊焊接設(shè)備；

　　（七）小型染整、紡絲試驗(yàn)專用設(shè)備；

　　（八）電生理設(shè)備。